製品の特徴
■ ユニークなレーザークリーニング用ソフトウェア制御システムで、インターフェースは明快かつ簡潔、操作も容易です。アプリケーションに応じてすべてのパラメータを設定・調整でき、レーザー光源およびガルバノスキャナーの制御を実現します。
■ 自社開発のスパイラル洗浄モードにより、お客様はスパイラルの連続数、走査長さおよび走査幅を設定でき、従来のレーザー洗浄で生じるゼブラ模様を回避できます。均一な洗浄面を実現し、基板にダメージを与えません。
■ プロフェッショナルなレーザークリーニング用光学設計により、高耐損傷閾値を備えたミラーと、高い透過率および大きな焦点深度を有するf-thetaレンズを採用し、高出力レーザークリーニングの長時間稼働に対応しています。
■ 高性能レーザー・ガルボスキャナーで、高速走査と高精度を実現し、専用の制御ソフトウェアと組み合わせることで、レーザークリーニングの多様な用途に対応します。
■ ポータブルなハンドヘルド部は、シンプルな構造で人間工学に基づいた設計となっており、操作が容易です。
■ 本洗浄システムの適用範囲は、各種レーザー光源モデルを組み合わせることで大幅に拡大されます。
技術的パラメーター
| レーザー開口 | 10mm |
| 清掃分野 | 100×20mm（その他のサイズはカスタマイズ可能です） |
| 機械式走査角 | ±11° |
| 精度と誤差 | |
| 線形性 | 99.9% |
| 繰り返し精度（RMS） | ＜8μRad |
| 8時間以上の長期ドリフト | ＜0.5mRad |
| スケールドリフト | ＜40ppm/℃ |
| ゼロドリフト | ＜15μRad/℃ |
| 設定時間 | ≤ 0.3ミリ秒 |
| 水冷制御 | |
| 水温 | 25±3℃ |
| 最大水圧 | ＜3バール |
| 流量 | >0.6L/分 |
| レーザー | |
| レーザーオプション | パルスレーザー |
| パワーレンジ | ≤ 300W |
| 動作電流、温度 | |
| 定格電流 | 2A |
| 動作温度 | 0℃～35℃ |
| 保管温度 | -10℃～60℃ |
キーワード： LC1403WD-V-QCS レーザークリーニングガルボシステム
LC1403WD-V-QCS レーザークリーニングガルボシステム
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製品の特徴
■ ユニークなレーザークリーニング用ソフトウェア制御システムで、インターフェースは明快かつ簡潔、操作も容易です。アプリケーションに応じてすべてのパラメータを設定・調整でき、レーザー光源およびガルバノスキャナーの制御を実現します。
■ 自社開発のスパイラル洗浄モードにより、お客様はスパイラルの連続数、走査長さおよび走査幅を設定でき、従来のレーザー洗浄で生じるゼブラ模様を回避できます。均一な洗浄面を実現し、基板にダメージを与えません。
■ プロフェッショナルなレーザークリーニング用光学設計により、高耐損傷閾値を備えたミラーと、高い透過率および大きな焦点深度を有するf-thetaレンズを採用し、高出力レーザークリーニングの長時間稼働に対応しています。
■ 高性能レーザー・ガルボスキャナーで、高速走査と高精度を実現し、専用の制御ソフトウェアと組み合わせることで、レーザークリーニングの多様な用途に対応します。
■ ポータブルなハンドヘルド部は、シンプルな構造で人間工学に基づいた設計となっており、操作が容易です。
■ 本洗浄システムの適用範囲は、各種レーザー光源モデルを組み合わせることで大幅に拡大されます。
技術的パラメーター
| レーザー開口 | 10mm |
| 清掃分野 | 100×20mm（その他のサイズはカスタマイズ可能です） |
| 機械式走査角 | ±11° |
| 精度と誤差 | |
| 線形性 | 99.9% |
| 繰り返し精度（RMS） | ＜8μRad |
| 8時間以上の長期ドリフト | ＜0.5mRad |
| スケールドリフト | ＜40ppm/℃ |
| ゼロドリフト | ＜15μRad/℃ |
| 設定時間 | ≤ 0.3ミリ秒 |
| 水冷制御 | |
| 水温 | 25±3℃ |
| 最大水圧 | ＜3バール |
| 流量 | >0.6L/分 |
| レーザー | |
| レーザーオプション | パルスレーザー |
| パワーレンジ | ≤ 300W |
| 動作電流、温度 | |
| 定格電流 | 2A |
| 動作温度 | 0℃～35℃ |
| 保管温度 | -10℃～60℃ |
关键词： LC1403WD-V-QCS レーザークリーニングガルボシステム
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