製品の特性
独自開発のスパイラル洗浄モードは、スパイラル段数、スキャン長さ、スキャン幅を自由に設定可能で、従来のレーザー洗浄で生じるゼブララインを回避。洗浄面が均一になり、基材を傷つけません。
専門的なレーザー洗浄用の光学設計により、高出力の石英レンズと、高い透過率および深い焦点深度を持つフィールドレンズを採用。さらに、水路設計を追加し、高出力レーザー洗浄の長時間稼働に対応しています。
エアナイフ設計を採用することで、均一な気流を形成し、ほこりなどの汚れを防ぎ、レンズの使用寿命を延ばします。
高性能レーザー振鏡は、スキャン速度が速く精度も高く、専用の制御ソフトウェアシステムと組み合わせることで、さまざまなレーザー洗浄用途に対応します。
ハンドル部分は構造がシンプルで軽量であり、人間工学に基づいた設計により、操作が容易です。
性能技術指標
レーザー入力開口 | 12mm |
標準的な洗浄サイズ | 100×20mm（その他の幅はカスタマイズ可能） |
機械的スキャン角度 | ±11° |
精度と誤差 | |
リニアリティ | 99.9% |
繰り返し位置決め精度 | ＜8μRad |
長時間ドリフト（連続稼働 8 時間） | ＜0.5mRad |
比例バイアス | ＜40PPM/ ℃ |
ゼロポイントドリフト | ＜15 μラド / ℃ |
スモールステップ応答時間 | ≤ 0.3ms |
水冷制御 | |
水温 | 25±3℃ |
最大水圧 | ＜3バール |
トラフィック | >0.6L/分 |
レーザー装置の適合 | |
レーザー装置の適合範囲 | QBH連続レーザー |
出力耐量範囲（連続レーザー） | ≤2000W |
動作電流、温度 | |
定格電流 | 2A |
作業温度 | 0℃ ~ 45℃ |
保存温度 | -10 ℃ ~60 ℃ |
キーワード： LC1403WD-V-2000
LC1403WD-V-2000
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製品の特性
独自開発のスパイラル洗浄モードは、スパイラル段数、スキャン長さ、スキャン幅を自由に設定可能で、従来のレーザー洗浄で生じるゼブララインを回避。洗浄面が均一になり、基材を傷つけません。
専門的なレーザー洗浄用の光学設計により、高出力の石英レンズと、高い透過率および深い焦点深度を持つフィールドレンズを採用。さらに、水路設計を追加し、高出力レーザー洗浄の長時間稼働に対応しています。
エアナイフ設計を採用することで、均一な気流を形成し、ほこりなどの汚れを防ぎ、レンズの使用寿命を延ばします。
高性能レーザー振鏡は、スキャン速度が速く精度も高く、専用の制御ソフトウェアシステムと組み合わせることで、さまざまなレーザー洗浄用途に対応します。
ハンドル部分は構造がシンプルで軽量であり、人間工学に基づいた設計により、操作が容易です。
性能技術指標
レーザー入力開口 | 12mm |
標準的な洗浄サイズ | 100×20mm（その他の幅はカスタマイズ可能） |
機械的スキャン角度 | ±11° |
精度と誤差 | |
リニアリティ | 99.9% |
繰り返し位置決め精度 | ＜8μRad |
長時間ドリフト（連続稼働 8 時間） | ＜0.5mRad |
比例バイアス | ＜40PPM/ ℃ |
ゼロポイントドリフト | ＜15 μラド / ℃ |
スモールステップ応答時間 | ≤ 0.3ms |
水冷制御 | |
水温 | 25±3℃ |
最大水圧 | ＜3バール |
トラフィック | >0.6L/分 |
レーザー装置の適合 | |
レーザー装置の適合範囲 | QBH連続レーザー |
出力耐量範囲（連続レーザー） | ≤2000W |
動作電流、温度 | |
定格電流 | 2A |
作業温度 | 0℃ ~ 45℃ |
保存温度 | -10 ℃ ~60 ℃ |
关键词： LC1403WD-V-2000
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